光刻机是芯片制造的核心设备之一，广义的光刻机包括用来生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机、用于LED制造领域的投影光刻机。光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。目前是中国在半导体设备制造上z大的短板。
数据显示，2019 年全球 IC 前道光刻机销售数量为 359台，其中主要为 I-line 光刻机、KrF 光刻机和 ArFi 光刻机；2009 年至 2019 年光刻机销售数量复合增长率为 9.57%。随着 IC 制程不断向前推进，IC 元件将更为复杂，平均所需的曝光层数不断增多，这将驱动光刻机需求的增长。未来 EUV光刻机将主要使用在在关键层曝光，销售量占比将有望提升；ArFi 光刻机将主要使用在在次关键层曝光，KrF 和 ArF 光刻机则将主要使用在在非关键层曝光，销售量将保持相对来说比较稳定；而 I-line 光刻机在存储芯片的非关键层曝光中还有广泛的应用，但在 28nm 以下节点的逻辑芯片非关键层曝光中的应用则将逐渐减少。
相关报告：北京普华有策信息咨询有限公司《2021-2027年光刻机产业全景深度调研及投资策略研究分析报告》
统计多个方面数据显示，2019 年全球 IC 前道光刻机市场规模为135.20 亿美元，2009 年至 2019 年复合增长率为 19.19%。其中，2019 年 EUV光刻机市场规模为 31.00 亿美元，同比增长 47.62%，占整体市场规模的比例达22.93%。随着 EUV 光刻机的销量快速提升，其占整体市场规模的比例将有望进一步提高。
我国光刻机市场的发展主要受益于我国晶圆产能的快速扩张以及设备国产化进程的加速推进。近年来，随国家加大半导体领域的投入，我国半导体设备采购额逐年增加。2018 年中国大陆半导体设备市场规模达131.10 亿美元，同比增长 59.30%，高于全球半导体设备市场规模同比增长率13.97%，中国大陆成为半导体设备市场规模增长最快的地区。此外，随着中国大陆晶圆产能的建设和扩产，中国将成为全世界晶圆产能增长的重心，这将带动国产半导体设备的需求量开始上涨，为国产光刻机的发展提供了良好的机遇。
光刻机的主要生产商包括荷兰 ASML、日本尼康、日本佳能和上海微电子。其中，ASML 独占了 70%以上的市场占有率。我国光刻机研发起步较慢，2003 年国务院启动中长期科技发展规划的制定工作，并于 2006 年完成发布《国家中长期科学和技术发展规划纲要（2006-2020 年）》，确定了极大规模集成电路制造技术及成套工艺作为重大专项，即所谓―02 专项‖，推动了包括光刻机在内的集成电路设备行业的快速发展。目前，我国的上海微电子研制的 90nm 高端步进扫描投影光刻机已完成整机集成测试，并在客户生产线上进行了工艺试验，是我国 IC前道光刻机有突出贡献的公司。
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