集微网消息 近日，盛美上海披露最新调研纪要称，ALD确实是未来技术发展的一个趋势，特别是公司更看重炉管 ALD，主要是其产量较大，可以同时做最少50片、100 片甚至更多，工艺包含较广。但是其难度也比较高，主要在于均匀、化学载体的控制比较难。ALD 在存储、先进制程等都有大量的使用，目前公司已有两款产品相继进入客户端验证。
未来，公司将通过差异化的技术产品展开市场之间的竞争，例如炉管方面，公司有特别的炉管设计，从均匀性、颗粒性以及使用效率等方面改进 ALD。公司 ALD 产品在不断拓展国内市场的同时，也很看重国际市场，希望将公司差异化的炉管ALD 技术导入给国外客户，所以公司是国内外两边都在进行。
对于清理洗涤设施，盛美上海表示，三年以前，公司清理洗涤设施大多分布在于单片设备。近年来，随公司不断对槽式设备做研发投入，现阶段公司槽式设备基本实现全工艺覆盖，包括清洗、去胶以及一些更先进的 3D 封装方面的槽式设备，公司认为未来槽式设备在国内成熟制程的扩张方面存在巨大潜力。因此，公司第二季度清理洗涤设施的增长很大一部分来源于槽式设备的增加。
其进一步指出，未来，公司还是会保持双向发展，在单片设备扩张的同时发展超临界 CO2 干燥清洗。这项技术目前全世界仅三家企业具有，并且企业具有独立的 IP 以及独特的技术能节省 40%的 CO2 使用量，未来公司会把这个设备推向国内和国际市场，特别是 CO2 干燥和公司兆声波清理洗涤设施结合在一起，能够更好的起到小结构清洗不破坏，同时又能干燥，应用前景很广阔。
而盛美上海电镀设备目前主要是新客户拓展较多，进行收入确认还需要一段时间，可能在今年下半年四季度或明年确认收入。其称，从出机量来看，一两年前公司电镀设备的出机量主要侧重先进封装设备，从今年开始公司的出机量主要侧重于前道设备的需求量。公司目前不仅是发展成熟制程，先进制程亦有突破，所以明年公司将有非常大的增长。
Track设备已于去年年底出机，目前进展不错，但由于是第一台设备，验证早期过程中存在部分常规问题，盛美上海团队在积极和客户以及合作厂商共同解决这样一些问题，希望年底这个设备能进入小批量的验证式的生产阶段。公司Track 设备的起点较高，未来的目标是达到每小时 300 片甚至更高的产量。
PECVD 设备方面，盛美上海也在和客户端沟通共同研发中得到很多进展，一些基本的问题都已解决完毕。其表示，未来公司考虑会有两类客户，一个是逻辑电路、一个是存储，同时公司的PECVD 设备有一个特点，与国际一流设备结构不同。所以未来公司在 PECVD 方面将利用公司的差异化技术来实现用户更高的要求，实现均匀性、颗粒性、薄膜应力以及产出等多方面的平衡，PECVD 将成为公司巨大的成长点，公司也会重点将 PECVD 设备推向市场。从销售角度看，PECVD 最少要明年才会为企业来提供销售贡献，如果要达到高销售贡献度需要到 2025 年或 2026 年左右。这几个设备的推出让公司有信心在未来 3-5 年保持快速地增长状态。
对于公司临港项目，盛美上海称目前大致上可以分为两部分，生产一厂目前是重点，年前应该会投入试生产。项目会在年底全部建设完成，包括研发实验室、生产二厂等，将陆续投入到正常的使用中。
此外，会有一个研发洁净室在今年完成装修，预计明年一季度投入使用，这样公司就拥有一个跟客户端完全同样等级的洁净室，这会使公司的研发条件大大改善。一些新产品、改进技术能在公司验证后再送到客户端，研发的进度会大大增强。
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